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       在半導體超純水制備中，紫外線（UV）TOC脫除技術是一項不可或缺的深度凈化工藝。它利用185nm紫外線激發產生的羥基自由基，將微量的有機物高效、無污染地氧化去除，并與后續的拋光混床離子交換器形成完美配合，共同保障出水的TOC穩定低于1ppb，滿足最嚴苛的半導體制造需求。該技術的特點是高效、清潔、可靠，是現代超純水系統中拋光處理的標桿技術。

       半導體工藝，如光刻、蝕刻、清洗等，對超純水的純度要求達到了近乎極致的程度。TOC代表水中有機物的總量，即使濃度在ppb（十億分之一）甚至ppt（萬億分之一） 級別，也會造成嚴重問題，此時就需要用到紫外線技術脫除TOC，這個技術并非簡單的“殺菌”或“分解”，而是一個復雜的光化學氧化過程，其核心是 “紫外氧化”。

       我司生產的TOC脫除器能有效解決在半導體超純水中TOC過高的問題，該項目采用我司8臺設備并聯的方式同時運行，效果良好。